光催化除臭是目前工业废气处理技术中先进的技术之一

光催化除臭装置是目前工业废气处理技术中先进的技术之一，它的开发充分考虑了工业废气性质的不确定性和复杂性，从工程的设计、配套、安装、调试、维护等方面提供了很大的可行性、可靠性、灵活性、有效性，下面简单介绍下光催化除臭装置的工作原理与优点。

光催化除臭装置的除臭机制主要包括两方面：

1、高压放电等离子体的过程，高能量产生的高频放电，释放一些有害的气体分子化学能，使其成为无害的元素原子或分子；

2、由于高压放电等离子体，其中包含大量的高能电子，积极的和消极的离子、激发态粒子和有很强的氧化自由基，粒子和气体分子碰撞我的活动部分，在电场的作用下，激发态的气味分子。当气味分子获得的能量超过其分子键的结合能时，臭味分子的化学键就会分解并直接分解成单个或无害的单个原子分子。同时，大量的活性自由基，如OH，HO2，被高度氧化，与有害气体分子发生化学反应，产生无害的产物。光催化除臭装置在处理废气和废水的过程中，同时粉尘、除臭剂、消毒灭菌、有机废气的降解、负氧离子的释放和许多加工效果。光催化除臭装置在处理废气和废水方面具有广泛的环境保护作用。


光解氧化是指在一定波长光照条件下,半导体材料发生光生载流子的分离,然后光生电子和空穴在与离子或分子结合生成具有氧化性或还原性的活性自由基,这种活性自由基能将有机物大分子降解为二氧化碳或其他小分子有机物以及水,在反应过程中这种半导体材料也就是光解剂本身不发生变化。 HJUV---系列TiO2光解催化氧化设备是我公司根据国内外废气处理设备的先进技术并在我公司多年生产光解催化氧化设备的基础上，改进的新一代TiO2光解催

化氧化设备， 本产品利用UV紫外线技术(波段184.9nm-253.7nm)，产生臭氧，游离活性氧离子。通过高能紫外线光破坏降解分子键及协同分解氧化反应去除有机污染物。